第129章 開啟光刻之路
四合院：賈東旭的逆襲 作者：峰神棒 投票推薦 加入書簽 留言反饋
1985年，陽光暖暖地灑在首都燕京的大地上，微風輕拂，帶著一絲希望與未知的氣息。
機械廠vcd的研發並出口海外獲得成功，研發的資金已有，賈東旭每天都在思考如何利用係統的獎勵，為國家和社會做出一番大事業。在那個電子產業飛速發展的時代，半導體技術成為了各國競爭的焦點，而光刻機作為半導體製造的核心設備，其重要性不言而喻。賈東旭敏銳地意識到，利用係統獎勵的技術提前研發中國光刻機，將是一個極具戰略意義的計劃，不僅能填補國內在這一領域的空白，還能讓中國在半導體產業中占據一席之地。
“幹！就搞光刻機！”賈東旭在心中暗暗下定決心。
一、技術路線選擇
要研發光刻機，首先麵臨的就是技術路線的選擇。在當時，光刻技術主要有接觸式光刻和步進式光刻兩種，接觸式光刻技術相對簡單，但精度較低，已經逐漸無法滿足半導體產業不斷提高的精度需求；而步進式光刻技術則代表著未來的發展方向，雖然技術難度大，但分辨率更高，能夠滿足大規模集成電路製造的要求。
賈東旭看著係統提供的技術資料，心中有了明確的目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）。這個決定在當時看來是相當大膽的，畢竟國內在光刻技術方麵的研究還處於起步階段，直接挑戰高難度的步進式光刻技術，無疑是一場艱難的冒險。但賈東旭相信，憑借係統提供的先進技術和自己的努力，一定能夠克服重重困難。
1. 技術定位
- 目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）；
- 技術參數：
- 分辨率：1.5μm（同期日本尼康為1.2μm）；
- 產能：60片\/小時（8英寸晶圓）；
- 光源：汞燈g線（436nm）。
確定了目標後，賈東旭開始仔細研究各項技術參數。分辨率1.5μm，雖然比不上同期日本尼康的1.2μm，但在國內已經是一個巨大的突破，而且隨著技術的不斷發展，還有很大的提升空間；產能60片\/小時，對於初步研發的光刻機來說，也算是一個比較可觀的數字；光源選擇汞燈g線，這是當時比較成熟的光刻光源，技術相對穩定，能夠滿足現階段的研發需求。
“這些參數雖然不是最頂尖的，但對於我們來說，已經是一個很好的起點了。”賈東旭自言自語道，眼神中透露出堅定的信念。
2. 係統技術包
有了明確的技術定位，接下來就是如何實現這些目標。幸運的是，係統為賈東旭提供了一係列強大的技術包，涵蓋了光學係統、機械係統和控製係統等光刻機的核心部件。
- 光學係統：
- 提取1986年蔡司鏡頭設計圖紙（na=0.42）；
- 提供多層抗反射膜鍍膜工藝。
光學係統是光刻機的核心之一，直接影響著光刻機的分辨率和成像質量。係統提取的1986年蔡司鏡頭設計圖紙，讓賈東旭如獲至寶。蔡司作為全球光學領域的巨頭，其鏡頭設計技術一直處於世界領先水平。有了這份圖紙，賈東旭在光學係統的研發上就有了堅實的基礎。同時，係統提供的多層抗反射膜鍍膜工藝，能夠有效減少光線反射，提高光學係統的效率和成像質量，進一步提升了光刻機的性能。
“這蔡司鏡頭設計圖紙和多層抗反射膜鍍膜工藝，簡直就是雪中送炭啊！”賈東旭興奮地說道，仿佛已經看到了成功的曙光。
- 機械係統：
- 輸出高精度氣浮工作台技術（定位精度±0.01μm）；
- 提供精密溫控方案（±0.01c）。
機械係統的精度和穩定性對於光刻機同樣至關重要。高精度氣浮工作台技術，能夠實現晶圓的高精度定位和運動，定位精度達到了±0.01μm，這在當時是非常先進的技術水平。精密溫控方案則能夠保證光刻機在工作過程中，各個部件的溫度穩定在±0.01c的範圍內，避免因溫度變化而導致的機械變形和精度下降。
“有了這兩項技術，機械係統的問題就能迎刃而解了。”賈東旭對機械係統的研發充滿了信心。
- 控製係統：
- 引入基於處理器的運動控製算法；
- 提供自動對準係統（ovey精度±0.1μm）。
控製係統是光刻機的大腦，負責協調各個部件的工作，實現光刻過程的自動化和高精度控製。基於處理器的運動控製算法，能夠快速準確地控製氣浮工作台的運動，保證晶圓在光刻過程中的位置精度。自動對準係統則能夠實現晶圓與掩膜版的自動對準，ovey精度達到了±0.1μm，大大提高了光刻的效率和精度。
“這些技術真是太強大了！”賈東旭感歎道，“有了係統的支持，我們離成功又近了一步。”
機械廠vcd的研發並出口海外獲得成功，研發的資金已有，賈東旭每天都在思考如何利用係統的獎勵，為國家和社會做出一番大事業。在那個電子產業飛速發展的時代，半導體技術成為了各國競爭的焦點，而光刻機作為半導體製造的核心設備，其重要性不言而喻。賈東旭敏銳地意識到，利用係統獎勵的技術提前研發中國光刻機，將是一個極具戰略意義的計劃，不僅能填補國內在這一領域的空白，還能讓中國在半導體產業中占據一席之地。
“幹！就搞光刻機！”賈東旭在心中暗暗下定決心。
一、技術路線選擇
要研發光刻機，首先麵臨的就是技術路線的選擇。在當時，光刻技術主要有接觸式光刻和步進式光刻兩種，接觸式光刻技術相對簡單，但精度較低，已經逐漸無法滿足半導體產業不斷提高的精度需求；而步進式光刻技術則代表著未來的發展方向，雖然技術難度大，但分辨率更高，能夠滿足大規模集成電路製造的要求。
賈東旭看著係統提供的技術資料，心中有了明確的目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）。這個決定在當時看來是相當大膽的，畢竟國內在光刻技術方麵的研究還處於起步階段，直接挑戰高難度的步進式光刻技術，無疑是一場艱難的冒險。但賈東旭相信，憑借係統提供的先進技術和自己的努力，一定能夠克服重重困難。
1. 技術定位
- 目標：跳過接觸式光刻，直接研發步進式光刻機（stepper）；
- 技術參數：
- 分辨率：1.5μm（同期日本尼康為1.2μm）；
- 產能：60片\/小時（8英寸晶圓）；
- 光源：汞燈g線（436nm）。
確定了目標後，賈東旭開始仔細研究各項技術參數。分辨率1.5μm，雖然比不上同期日本尼康的1.2μm，但在國內已經是一個巨大的突破，而且隨著技術的不斷發展，還有很大的提升空間；產能60片\/小時，對於初步研發的光刻機來說，也算是一個比較可觀的數字；光源選擇汞燈g線，這是當時比較成熟的光刻光源，技術相對穩定，能夠滿足現階段的研發需求。
“這些參數雖然不是最頂尖的，但對於我們來說，已經是一個很好的起點了。”賈東旭自言自語道，眼神中透露出堅定的信念。
2. 係統技術包
有了明確的技術定位，接下來就是如何實現這些目標。幸運的是，係統為賈東旭提供了一係列強大的技術包，涵蓋了光學係統、機械係統和控製係統等光刻機的核心部件。
- 光學係統：
- 提取1986年蔡司鏡頭設計圖紙（na=0.42）；
- 提供多層抗反射膜鍍膜工藝。
光學係統是光刻機的核心之一，直接影響著光刻機的分辨率和成像質量。係統提取的1986年蔡司鏡頭設計圖紙，讓賈東旭如獲至寶。蔡司作為全球光學領域的巨頭，其鏡頭設計技術一直處於世界領先水平。有了這份圖紙，賈東旭在光學係統的研發上就有了堅實的基礎。同時，係統提供的多層抗反射膜鍍膜工藝，能夠有效減少光線反射，提高光學係統的效率和成像質量，進一步提升了光刻機的性能。
“這蔡司鏡頭設計圖紙和多層抗反射膜鍍膜工藝，簡直就是雪中送炭啊！”賈東旭興奮地說道，仿佛已經看到了成功的曙光。
- 機械係統：
- 輸出高精度氣浮工作台技術（定位精度±0.01μm）；
- 提供精密溫控方案（±0.01c）。
機械係統的精度和穩定性對於光刻機同樣至關重要。高精度氣浮工作台技術，能夠實現晶圓的高精度定位和運動，定位精度達到了±0.01μm，這在當時是非常先進的技術水平。精密溫控方案則能夠保證光刻機在工作過程中，各個部件的溫度穩定在±0.01c的範圍內，避免因溫度變化而導致的機械變形和精度下降。
“有了這兩項技術，機械係統的問題就能迎刃而解了。”賈東旭對機械係統的研發充滿了信心。
- 控製係統：
- 引入基於處理器的運動控製算法；
- 提供自動對準係統（ovey精度±0.1μm）。
控製係統是光刻機的大腦，負責協調各個部件的工作，實現光刻過程的自動化和高精度控製。基於處理器的運動控製算法，能夠快速準確地控製氣浮工作台的運動，保證晶圓在光刻過程中的位置精度。自動對準係統則能夠實現晶圓與掩膜版的自動對準，ovey精度達到了±0.1μm，大大提高了光刻的效率和精度。
“這些技術真是太強大了！”賈東旭感歎道，“有了係統的支持，我們離成功又近了一步。”