這一步顯然需要改進，更加自動化的生產線大多都是通過軌道自動運輸晶圓，在穩定性和安全性上無疑就是大大超越了人工運輸。
“這一步的良品率大概在多少？”王向中靠近牛玉鵬，貼著對方的耳朵問道。
“這個得問質量部門，我一個行政，也不太清楚這些事情。”牛玉鵬也是攤開了手，顯得有些無奈。
王向中也沒辦法，隻得點了點頭，畢竟牛玉鵬現在不過是個辦公室主任，不知道生產上的詳細數據倒也很正常。
但顯然這一步肯定還是有些許問題的，隻要拿到數據，說不定就可以得出一些結論來。不過考慮到成本，隻要對工作人員進行更多的培訓，也許可以在這個環節上減緩一些損失。
接下來是打磨倒角工藝，在這一環上，需要將每張晶圓打磨至775微米左右的厚度，也就是約0.7毫米左右的厚度，還要特意在晶圓背麵做背損傷，以方便後續流程進行雜質的沉積。
而倒角則是要將晶圓邊緣側麵進行打磨，將直角麵打磨成弧麵，以防止在之後的光刻膠噴塗工序和外延生長工序時，不會因為離心力過大而導致晶圓邊緣出現沉積現象。
再接下來就是化學刻蝕和cmp（chemical-mechanicalpolishing，化學機械拋光）步驟，這兩道工序的目的相同，首先使用硝酸和氫氟酸對晶圓表麵進行清洗，保證去除切割所帶來的雜質，接著將矽片安裝在特定旋轉的拋光的儀器上，稍稍打薄個5微米左右的厚度，保證盡可能平整晶圓表麵，將起伏控製在50nm以下。
最終，再用超純水去除晶圓表麵所殘留的研磨液和拋光墊殘留雜質，保證表麵殘留顆粒不大於100nm，即可得到單晶襯底，也就是基片，最終送往下一步光刻步驟。
這幾個步驟所用的機器都是進口的，也沒有人工參與，因此王向中也暫時還沒有發現什麽問題。
“接下來就要到光刻工序啦，”牛玉鵬笑道，“接下來的東西太專業，我也不知道該怎麽講了，所以就邀請我們的總經理，左為民廠長來給大家進行講解。”
“總經理？”幾人也是麵麵相覷，不得不說對方也太給麵子了，僅僅是解說，居然也請到了總經理。
“大家好，我是晶華晶圓廠的總經理，左為民。”也不知道何時，一個鬼魅般的身影從眾人身後走出，旋即迴頭看向幾人，眼神陰厲，讓人一看就覺得不太舒服。
“自我介紹一下，我在晶華呆了三十多年了，曾經也是晶華的廠長，親眼見證晶華從pcb業務做到半導體業務，也是晶華內部最強的技術骨幹之一。”左為民繼續說道。
王向中見狀，則是若有所思地盯了對方一眼，盡管此時對方戴著口罩，但他仍然是可以在對方眼中看出那種相當的自負之意。
不僅是如此，那種陰厲的眼神中，還隱隱藏著不屑之意，似乎是有些看不起他們這些來自水木大學的知識分子，或者可以直接說是對他們存有敵意。
總之，對方來者不善。
“調整好你們的防塵服，接下來的核心區域容不得出現半分錯誤。”左為民聲音冷淡，對著幾人指揮道。
不得不說，這左為民身上還是有一種相當的上位者氣質的，這輕輕一句話，就嚇得白馬和金圓圓倆人手忙腳亂地整理起身上地防塵服。
葉誌華同樣是敏銳地捕捉到了左為民身上的不尋常氣息，當下也是眼睛微咪起來。他可不是嚇大的，風風雨雨這麽多年，什麽樣的人沒見過？這一嗓子，就是典型的下馬威。
隻是沒想到自己這邊還沒有開始，廠裏的保守派就已經跳出來了。
作為水木大學的專家團隊，他們暫時還不了解廠裏的具體運作狀況，所以需要在工程師的幫助下，共同對晶華可能存在的問題進行探討。
但是這裏有一個問題，就是外來技術專家和工程師之間，永遠有著不可調和的矛盾。
技術專家的目的是為了解決工程師遺留的問題，這勢必要觸及到工程師犯下的錯誤，然後將這個錯誤擺在台麵上來進行論證，最終完善整條生產線中出現的問題。
左為民作為工程師，作為晶華的技術骨幹，自然是不願意承認自己的錯誤——即使他沒有能力，也會想要試圖掩蓋一切對其不利的證據，即便最終的代價是整個廠消失在曆史長河中，他也不願意讓自己的臉麵遭受到任何損失。
葉誌華將目光投向一旁的牛玉鵬，而此時對方也是攤了攤手，模樣也是顯得頗為無奈。很顯然牛玉鵬是非常清楚這個問題存在的，但是他們解決不了。
這直接說明了，晶華的問題還不僅僅停留於技術層麵上，在人的層麵上，可能同樣有著不小的矛盾。
這在場的一切舉動自然也是被王向中盡收眼底，不過他仍然是不動聲色，隻是笑著上前說道：“左廠長，我們已經準備好了，可以開始了吧？”
左為民輕輕掃了在場眾人一眼，輕聲道：“跟我來。”
再通過一組氣鎖室，王向中幾人便是到達了晶圓廠的內部核心所在——光刻室。
光刻室，是一家晶圓廠的終極奧秘所在。這裏處處遍布著黃色的鈉燈用於照明，氣壓和濕度也達到了一個人類舒適範圍之外的指標。
一進入這裏，不僅會覺得鈉燈的光線特別黃，同時，還會覺得防塵服下變得粘膩燥熱起來，就如同進入了高壓鍋一般。
因為空氣的流動特性，氣體總是會從高壓地區流向低壓地區，因此為了保證光刻室內的最大純淨程度，光刻室內的壓強起碼要比外麵的大氣壓高上50kpa左右，以保證外部汙染物不會隨著空氣流入光刻室內。
在廣義上，光刻中一般包含三個步驟，第一個步驟是塗膠，即塗抹光刻膠。
光刻膠分為正膠和負膠兩種，其中正膠遇光就會失去原有化學性質，而負膠遇光就會產生化學性質的變化，這兩種膠通常用在不同的工序之中。
第二道工序則是刻蝕，當矽單質基底均勻塗抹光刻膠後，通過光源對光刻膠進行曝光，再使用超純水和化學物質對基底進行蝕刻，在基底表麵留下與光掩模一致的坑道。
而第三道工序則是沉積，在坑道內的不同部分摻入硼、磷等雜質，並使其沉積在基底表麵，通過它們不同的化學性質，在基底這張不導電的矽片上人為創造可以單向導電的pn二極管。
“這一步的良品率大概在多少？”王向中靠近牛玉鵬，貼著對方的耳朵問道。
“這個得問質量部門，我一個行政，也不太清楚這些事情。”牛玉鵬也是攤開了手，顯得有些無奈。
王向中也沒辦法，隻得點了點頭，畢竟牛玉鵬現在不過是個辦公室主任，不知道生產上的詳細數據倒也很正常。
但顯然這一步肯定還是有些許問題的，隻要拿到數據，說不定就可以得出一些結論來。不過考慮到成本，隻要對工作人員進行更多的培訓，也許可以在這個環節上減緩一些損失。
接下來是打磨倒角工藝，在這一環上，需要將每張晶圓打磨至775微米左右的厚度，也就是約0.7毫米左右的厚度，還要特意在晶圓背麵做背損傷，以方便後續流程進行雜質的沉積。
而倒角則是要將晶圓邊緣側麵進行打磨，將直角麵打磨成弧麵，以防止在之後的光刻膠噴塗工序和外延生長工序時，不會因為離心力過大而導致晶圓邊緣出現沉積現象。
再接下來就是化學刻蝕和cmp（chemical-mechanicalpolishing，化學機械拋光）步驟，這兩道工序的目的相同，首先使用硝酸和氫氟酸對晶圓表麵進行清洗，保證去除切割所帶來的雜質，接著將矽片安裝在特定旋轉的拋光的儀器上，稍稍打薄個5微米左右的厚度，保證盡可能平整晶圓表麵，將起伏控製在50nm以下。
最終，再用超純水去除晶圓表麵所殘留的研磨液和拋光墊殘留雜質，保證表麵殘留顆粒不大於100nm，即可得到單晶襯底，也就是基片，最終送往下一步光刻步驟。
這幾個步驟所用的機器都是進口的，也沒有人工參與，因此王向中也暫時還沒有發現什麽問題。
“接下來就要到光刻工序啦，”牛玉鵬笑道，“接下來的東西太專業，我也不知道該怎麽講了，所以就邀請我們的總經理，左為民廠長來給大家進行講解。”
“總經理？”幾人也是麵麵相覷，不得不說對方也太給麵子了，僅僅是解說，居然也請到了總經理。
“大家好，我是晶華晶圓廠的總經理，左為民。”也不知道何時，一個鬼魅般的身影從眾人身後走出，旋即迴頭看向幾人，眼神陰厲，讓人一看就覺得不太舒服。
“自我介紹一下，我在晶華呆了三十多年了，曾經也是晶華的廠長，親眼見證晶華從pcb業務做到半導體業務，也是晶華內部最強的技術骨幹之一。”左為民繼續說道。
王向中見狀，則是若有所思地盯了對方一眼，盡管此時對方戴著口罩，但他仍然是可以在對方眼中看出那種相當的自負之意。
不僅是如此，那種陰厲的眼神中，還隱隱藏著不屑之意，似乎是有些看不起他們這些來自水木大學的知識分子，或者可以直接說是對他們存有敵意。
總之，對方來者不善。
“調整好你們的防塵服，接下來的核心區域容不得出現半分錯誤。”左為民聲音冷淡，對著幾人指揮道。
不得不說，這左為民身上還是有一種相當的上位者氣質的，這輕輕一句話，就嚇得白馬和金圓圓倆人手忙腳亂地整理起身上地防塵服。
葉誌華同樣是敏銳地捕捉到了左為民身上的不尋常氣息，當下也是眼睛微咪起來。他可不是嚇大的，風風雨雨這麽多年，什麽樣的人沒見過？這一嗓子，就是典型的下馬威。
隻是沒想到自己這邊還沒有開始，廠裏的保守派就已經跳出來了。
作為水木大學的專家團隊，他們暫時還不了解廠裏的具體運作狀況，所以需要在工程師的幫助下，共同對晶華可能存在的問題進行探討。
但是這裏有一個問題，就是外來技術專家和工程師之間，永遠有著不可調和的矛盾。
技術專家的目的是為了解決工程師遺留的問題，這勢必要觸及到工程師犯下的錯誤，然後將這個錯誤擺在台麵上來進行論證，最終完善整條生產線中出現的問題。
左為民作為工程師，作為晶華的技術骨幹，自然是不願意承認自己的錯誤——即使他沒有能力，也會想要試圖掩蓋一切對其不利的證據，即便最終的代價是整個廠消失在曆史長河中，他也不願意讓自己的臉麵遭受到任何損失。
葉誌華將目光投向一旁的牛玉鵬，而此時對方也是攤了攤手，模樣也是顯得頗為無奈。很顯然牛玉鵬是非常清楚這個問題存在的，但是他們解決不了。
這直接說明了，晶華的問題還不僅僅停留於技術層麵上，在人的層麵上，可能同樣有著不小的矛盾。
這在場的一切舉動自然也是被王向中盡收眼底，不過他仍然是不動聲色，隻是笑著上前說道：“左廠長，我們已經準備好了，可以開始了吧？”
左為民輕輕掃了在場眾人一眼，輕聲道：“跟我來。”
再通過一組氣鎖室，王向中幾人便是到達了晶圓廠的內部核心所在——光刻室。
光刻室，是一家晶圓廠的終極奧秘所在。這裏處處遍布著黃色的鈉燈用於照明，氣壓和濕度也達到了一個人類舒適範圍之外的指標。
一進入這裏，不僅會覺得鈉燈的光線特別黃，同時，還會覺得防塵服下變得粘膩燥熱起來，就如同進入了高壓鍋一般。
因為空氣的流動特性，氣體總是會從高壓地區流向低壓地區，因此為了保證光刻室內的最大純淨程度，光刻室內的壓強起碼要比外麵的大氣壓高上50kpa左右，以保證外部汙染物不會隨著空氣流入光刻室內。
在廣義上，光刻中一般包含三個步驟，第一個步驟是塗膠，即塗抹光刻膠。
光刻膠分為正膠和負膠兩種，其中正膠遇光就會失去原有化學性質，而負膠遇光就會產生化學性質的變化，這兩種膠通常用在不同的工序之中。
第二道工序則是刻蝕，當矽單質基底均勻塗抹光刻膠後，通過光源對光刻膠進行曝光，再使用超純水和化學物質對基底進行蝕刻，在基底表麵留下與光掩模一致的坑道。
而第三道工序則是沉積，在坑道內的不同部分摻入硼、磷等雜質，並使其沉積在基底表麵，通過它們不同的化學性質，在基底這張不導電的矽片上人為創造可以單向導電的pn二極管。