我們完全可以想象一下三十萬平方公裏是多麽的大。
島國的麵積隻不過三十七點八平方公裏。
相當於島國這麽大，我們的國家呢，大約是九百六十萬平方公裏，相當於我們國土麵積的3％了。
這個麵積不可謂不大，但是這麽大的麵積僅僅誤差一米，這是多麽令人恐怖的一件事情啊。
這還僅僅是duv光刻機，就有這樣的精密度，要是換作更高級的euv光刻機呢。
那精密度更高！
還是拿著三十萬平方公裏計算，那麽誤差不會超過十厘米。
“十厘米……”張星辰眼睛放著奇異的光芒，小白也不知道張星辰在想什麽。
目前為止，在我們星球上隻有德意誌戰車的斯克爾公司可以做到這一步。
就算是風車國的asml公司也是采購的這一家公司打磨的鏡片。
“我們這一次製造出來的光刻機，一共有著三個平台，這三個平台分別用來盛放掩膜，矽晶圓片還有成品。”
放置成品的目的其實就是為了對芯片進行測試，檢驗一下芯片是否符合要求。
和最後一個平台相比，前兩個平台無疑要重要許多。
這兩種平台的運動方式有著兩種方式，第一種就是相對靜止的。
相對靜止模式的光刻機這樣可以使得光線可以一下子就鐫刻好芯片的線路圖，速度相對來說是快一些，，但是這樣的話相當於直接拓印了。
這就導致了光線容易飛散，很大程度上影響了成品率。
第二種模式就是光線跟著放置眼膜的平台一起運動，這樣的話光線集中，鐫刻出來的線路圖清晰，誤差小，自然的成品率就會提高。
“不過對於機械的精密度要求非常高，我們製造出來的duv光刻機已經可以把誤差控製在十納米之內了，對於製造45納米的芯片而已來說已經可以了，已經可以滿足要求，沒有必要使用第二種模式。”
“如果使用euv光刻機，那麽對於誤差的要求會更加嚴格，必須要保證在兩納米之內。”
除此之外，這裏有一點需要說明，兩個工作台在運動時候初速度的加速度非常快，甚至可以和發射炮彈出去時候的加速度相媲美。
而且製造芯片的時候，光刻機必須處於恆溫狀態，對於溫度要求非常嚴格，在工作狀態的時候，溫度的誤差不能超過千分之一。
“我們製造了這一款duv光刻機，這兩個平麵是靜止的這樣製造起來更容易，也同樣也是可以滿足要求。”
掩模和矽晶圓片的相對位置這裏也有三種，第一種是相互接觸；第二種是他們兩個的位置非常接近，但是並不接觸；第三種就是距離相對較遠，相當於投影。
也就是接觸式曝光。接近式曝光、投影式曝光這三種。
其中效果最好的是投影式曝光，最差的就是接觸式曝光。
“我們選擇中間的接近式曝光，因為duv光刻機沒有必要用最好的，這樣大大提高了難度和成本，以及功能富足。”
關於接觸式的曝光其實非常複雜的，不過總體上可以分為三種，一種是真空接觸，一種是硬接觸，一種是軟接觸。
雖然名字不一樣，但是後麵兩個字是不會錯的，那都是接觸。
因為掩模和矽晶圓片相互接觸了，那麽他們之間肯定會相互摩擦，這樣不僅對矽晶圓片上麵的光刻膠產生影響，而且還會影響掩模的精密度，影響掩模上麵的線路圖。
因為掩膜版，它是需要重複使用的，但這樣每一次使用都和矽晶圓片相互接觸，那麽久而久之模版就會傷害上麵的線路。線路圖就會越來越模糊，甚至出現缺陷，也就使的掩模的破損率大大增加。
在使用一段時間之後，掩膜版就不能使用了。
這樣接觸式曝光就有一個嚴重的缺點，這樣的缺點導致接觸式曝光漸漸被淘汰了。
說出來很可惜，我們國家現在生產出來的光刻機，基本上都是接觸式曝光，因為接觸式曝光的技術和製造都相對來說簡單，製造起來相對來說比較容易。
但是外國呢，基本上都把接觸時把光給淘汰了。
至於投影式曝光，一般都是更高級的euv光刻機上才能使用的。
對於的duv光刻機，沒有必要使用投影式曝光，我們現在使用的僅僅是接近式曝光，矽晶圓片和掩模版彼此之間的距離非常小，這一段距離大約保持的260um之下，以我們的肉眼是看不見的，必須用高倍的放大鏡才可以看見。
投影式曝光非常的複雜，隻不過基本上分為三種：掃描步進投影曝光。不僅重複投影曝光。掃描投影曝光。
毫無疑問，這三種方法，對於技術和製造能力來說，都要求非常非常高，幾乎到了變態的程度。
“就算是我想要製造出來euv光刻機，那也需要花費很長的時間，更別說別人了。”
asml生產出來的高級光刻機就是用的投影式曝光，它們的產量也不高，一年也就能生產出來30部euv光刻機。
可以說製造出來光刻機是一件非常不容易的事情，我們甚至可以說光刻機是這個世界上最精密的設備，最起碼在現在這個階段，光刻機是最精密的儀器。
製造光刻機的在很大程度上都能反映出一個國家的工業水平到底處於什麽階段。
一個光刻機他上邊的零部件超過10萬個，線路有3000條，螺栓4萬個，軟管長度超過兩公裏，此外，還有190多個傳感器，包含16個分係統。
那麽多零補角組合在一起，形成了一個光刻機。設備上的所有零部件之間相互配合，不能出現一個問題。
如果一個小零件出現問題，就能導致整個機器不能正常運轉，就連一個小螺栓都不能出現問題。
可以毫不誇張的說，牽一發而動全身。
千萬不要小看一個螺栓，它可能就能影響整個機器的運行，可以說隻要安裝在光刻機上邊的零部件那就是重要零部件。
“對了，asml公司1年能生產接近生產30台，要是我們馬力開，全開一年能生產出來多少台光刻機？”張星辰問道。
對於這個問題張星辰還是很好奇的。
島國的麵積隻不過三十七點八平方公裏。
相當於島國這麽大，我們的國家呢，大約是九百六十萬平方公裏，相當於我們國土麵積的3％了。
這個麵積不可謂不大，但是這麽大的麵積僅僅誤差一米，這是多麽令人恐怖的一件事情啊。
這還僅僅是duv光刻機，就有這樣的精密度，要是換作更高級的euv光刻機呢。
那精密度更高！
還是拿著三十萬平方公裏計算，那麽誤差不會超過十厘米。
“十厘米……”張星辰眼睛放著奇異的光芒，小白也不知道張星辰在想什麽。
目前為止，在我們星球上隻有德意誌戰車的斯克爾公司可以做到這一步。
就算是風車國的asml公司也是采購的這一家公司打磨的鏡片。
“我們這一次製造出來的光刻機，一共有著三個平台，這三個平台分別用來盛放掩膜，矽晶圓片還有成品。”
放置成品的目的其實就是為了對芯片進行測試，檢驗一下芯片是否符合要求。
和最後一個平台相比，前兩個平台無疑要重要許多。
這兩種平台的運動方式有著兩種方式，第一種就是相對靜止的。
相對靜止模式的光刻機這樣可以使得光線可以一下子就鐫刻好芯片的線路圖，速度相對來說是快一些，，但是這樣的話相當於直接拓印了。
這就導致了光線容易飛散，很大程度上影響了成品率。
第二種模式就是光線跟著放置眼膜的平台一起運動，這樣的話光線集中，鐫刻出來的線路圖清晰，誤差小，自然的成品率就會提高。
“不過對於機械的精密度要求非常高，我們製造出來的duv光刻機已經可以把誤差控製在十納米之內了，對於製造45納米的芯片而已來說已經可以了，已經可以滿足要求，沒有必要使用第二種模式。”
“如果使用euv光刻機，那麽對於誤差的要求會更加嚴格，必須要保證在兩納米之內。”
除此之外，這裏有一點需要說明，兩個工作台在運動時候初速度的加速度非常快，甚至可以和發射炮彈出去時候的加速度相媲美。
而且製造芯片的時候，光刻機必須處於恆溫狀態，對於溫度要求非常嚴格，在工作狀態的時候，溫度的誤差不能超過千分之一。
“我們製造了這一款duv光刻機，這兩個平麵是靜止的這樣製造起來更容易，也同樣也是可以滿足要求。”
掩模和矽晶圓片的相對位置這裏也有三種，第一種是相互接觸；第二種是他們兩個的位置非常接近，但是並不接觸；第三種就是距離相對較遠，相當於投影。
也就是接觸式曝光。接近式曝光、投影式曝光這三種。
其中效果最好的是投影式曝光，最差的就是接觸式曝光。
“我們選擇中間的接近式曝光，因為duv光刻機沒有必要用最好的，這樣大大提高了難度和成本，以及功能富足。”
關於接觸式的曝光其實非常複雜的，不過總體上可以分為三種，一種是真空接觸，一種是硬接觸，一種是軟接觸。
雖然名字不一樣，但是後麵兩個字是不會錯的，那都是接觸。
因為掩模和矽晶圓片相互接觸了，那麽他們之間肯定會相互摩擦，這樣不僅對矽晶圓片上麵的光刻膠產生影響，而且還會影響掩模的精密度，影響掩模上麵的線路圖。
因為掩膜版，它是需要重複使用的，但這樣每一次使用都和矽晶圓片相互接觸，那麽久而久之模版就會傷害上麵的線路。線路圖就會越來越模糊，甚至出現缺陷，也就使的掩模的破損率大大增加。
在使用一段時間之後，掩膜版就不能使用了。
這樣接觸式曝光就有一個嚴重的缺點，這樣的缺點導致接觸式曝光漸漸被淘汰了。
說出來很可惜，我們國家現在生產出來的光刻機，基本上都是接觸式曝光，因為接觸式曝光的技術和製造都相對來說簡單，製造起來相對來說比較容易。
但是外國呢，基本上都把接觸時把光給淘汰了。
至於投影式曝光，一般都是更高級的euv光刻機上才能使用的。
對於的duv光刻機，沒有必要使用投影式曝光，我們現在使用的僅僅是接近式曝光，矽晶圓片和掩模版彼此之間的距離非常小，這一段距離大約保持的260um之下，以我們的肉眼是看不見的，必須用高倍的放大鏡才可以看見。
投影式曝光非常的複雜，隻不過基本上分為三種：掃描步進投影曝光。不僅重複投影曝光。掃描投影曝光。
毫無疑問，這三種方法，對於技術和製造能力來說，都要求非常非常高，幾乎到了變態的程度。
“就算是我想要製造出來euv光刻機，那也需要花費很長的時間，更別說別人了。”
asml生產出來的高級光刻機就是用的投影式曝光，它們的產量也不高，一年也就能生產出來30部euv光刻機。
可以說製造出來光刻機是一件非常不容易的事情，我們甚至可以說光刻機是這個世界上最精密的設備，最起碼在現在這個階段，光刻機是最精密的儀器。
製造光刻機的在很大程度上都能反映出一個國家的工業水平到底處於什麽階段。
一個光刻機他上邊的零部件超過10萬個，線路有3000條，螺栓4萬個，軟管長度超過兩公裏，此外，還有190多個傳感器，包含16個分係統。
那麽多零補角組合在一起，形成了一個光刻機。設備上的所有零部件之間相互配合，不能出現一個問題。
如果一個小零件出現問題，就能導致整個機器不能正常運轉，就連一個小螺栓都不能出現問題。
可以毫不誇張的說，牽一發而動全身。
千萬不要小看一個螺栓，它可能就能影響整個機器的運行，可以說隻要安裝在光刻機上邊的零部件那就是重要零部件。
“對了，asml公司1年能生產接近生產30台，要是我們馬力開，全開一年能生產出來多少台光刻機？”張星辰問道。
對於這個問題張星辰還是很好奇的。