改造火星毫無疑問需要的是技術以及金錢的支撐，這兩者缺一不可。
經過漫長的時間之後，如果能改造成功，毫無疑問火星就會屬於張星辰了，不管別人承認也好，不承認也好。
張星辰有能力改造也有能力上去，別人呢，或者說別地國家呢？
或許，其他國家連送人去火星都辦不到呢，而張星辰這裏已經完成了火星的改造，想想一個人獨占一個星球的美好，想到張星辰的嘴角都忍不住往上輕俏。
……
自己生產矽晶圓片僅僅是第一步，接下來的第二步就是自己製造光刻機，其是高端光刻機。
可以自己製造光刻機之後，那麽生產芯片的整個流程星辰公司可以說都掌握了，從設計芯片到製造矽晶圓片到生產芯片整個流程，上流中流，下流都可以完成了，獨自完成，再也不用依靠別人。
說起光刻機來，其實光刻機有很多名字。比如說光刻係統，比如說曝光係統，比如說掩模對準曝光機等等，其實他們說的都是一個設備，那就是光刻機。
光刻機是生產芯片最關鍵的一種設備，可以說沒有光刻機，就生產不出來芯片。
光刻機的工作原理非常簡單，和以前照片衝印的技術類似，隻不過精密度有一定的差別。
可以說光刻機的精密度非常的高，已經達到納米級別。
可以毫不誇張地說高端的光刻機是這個世界上最精密的儀器，被稱作現代光學工業之花，其中沒有一點水分，貨真價實。
從這個稱唿來看，我們就可以從側麵反映出光合機的精密度以及價值，高端的光刻機的價格非常昂貴，可以賣到5億米元。
當然這不僅僅是金錢的關係，有時候你就算有錢，人家也不願意賣給你。
因為外國人害怕我們買迴去之後研究，然後可以自己製造出來，畢竟我們國家的逆向推理能力還是非常強的。
現在能知道高端高科技的企業都是外國企業呀，其中最出名的就是三個企業，三個企業就是荷蘭的asml，島國的ai kun以及島國的acon。
這三大企業當中，島國占據兩個，我們可以從這方麵可以發現島國在光刻機上是非常強大的。
雖然我們有曆史原因非常仇視島國，但是我們不得不承認他們強大，不得不正視他們的強大，我們需不需要盲目地自大，也不需要盲目地自卑。
我們要正視自己，也要正視敵人，認清自己，也認清認清楚敵人，這樣做到知己知彼才能百戰不殆。
此時的落後不可怕，可怕的是一直在落後，我們知道自己不如別人之後，這樣才能追上敵人，甚至超越敵人。
而且因為星晨公司的存在，相信用不了多長時間，我們在芯片上的能力。就會超越島國超過asml，甚至把他們遠遠甩在身後。
到時候我們國家就會成為芯片大國，也是芯片強國。
芯片是在矽晶圓片上鐫刻出來的，想要製造芯片，首先我們要準備好一張矽晶圓片，然後我們在矽晶圓片上麵塗抹上光刻膠。
把塗抹好光刻膠的矽晶圓片放在光刻機的平台上，光刻膠的上方會有一個掩模，掩模的上麵就是紫外光線發射器。
當光刻機開始工作的時候，紫外光線發射器會發射出紫外光線，紫外光線透過掩模就會照射到光刻膠上。
在掩模上，有著已經事先設計好的電路線圖，光刻機釋放出來的紫外光線透過掩模上的縫隙，通過縫隙的紫外光線會照射在光刻膠上。
那麽接受紫外光線照射的光刻膠就會融化。因此在光刻膠上形成了電路圖案。
但是這裏要注意，這裏僅僅是在光刻膠上形成了圖案，我們最終的目的是在矽晶圓片上形成電路線圖。
隨後我們把矽晶圓片放入到腐化劑上，這樣在沒有光刻膠保護的地方就會被腐化劑給腐蝕掉，從而在矽晶圓片上留下電路。
等電路圖形成之後，用純淨水清洗表麵就可以，去除雜質。
這個過程就像拿著手電筒照一個擁有漏洞的圖案，這個漏洞是什麽，就會在背後的牆上形成什麽樣的圖案一樣。
原理是一樣的，主要是看精密度。
光刻機的精密度是納米級別的。
如果僅僅說納米級別，大家是感受不出來它的精密度到底有多麽精密？
在這裏可以打一個形象的比喻，大家都知道頭發絲的厚度，如果不知道，我們可以從自己的頭上拔一個看看。
納米級別的精密度就是一根頭發絲的五千分之一這麽細。
想想吧，我們的一根頭發分成5000份，納米級別就是其中的五千分之一。
而光刻機的誤差僅僅在兩納米之內。
光刻機有兩個工作平台，這兩個工作平台要保持同步，這就是所謂的機械精度，機械精度的誤差也在兩個納米之內。
這兩個工作平台一個是放矽晶圓片的，一個釋放掩模的。
在光刻機上紫外光線發射器是不動的，而兩個工作平台是同時移動的，這樣可以提高芯片的成品率，但是對設備要求非常高。
當然啦，光刻機不僅僅機械精密要求高，而且對於光源的要求也是非常高，裏邊兒蘊含著光學係統也是無比的複雜。
光刻機的光源有duv，也有euv.
所謂的euv也就是極紫外光。
光刻機裏麵用極紫外光的，光刻機被稱作euv光刻機，可以說這是世界上最先進的光刻機，能生產五納米乃至三納米的芯片，掌握這種技術的僅僅隻有米國一個國家。
我們國家也可以生產光刻機，但是精密度卻沒有那麽高，我們自己生產的光刻機。被稱作600係列光刻機。
它可以生產90納米的芯片，是長城電子設備公司製造出來的，而外國的高科技也能生產五納米的芯片了。
兩者相比較，我們可以看出雙方之間的差距來還是非常大的，這可不僅僅是一代的差距。是數代的差距。
要知道光刻機的精密度90納米是一個難關，過了這難關之後，將密度進一步提升是非常容易的，前麵一路舒坦。一直到45納米才會遇見關卡。
過了45納米這一關之後，下一關就是22納米了……
後邊還有很多關卡，我們自己製造的光刻機僅僅能製造90納米的芯片，不過我們通過購買國外淘汰的光刻機，現在我們的中芯國際可以製造14納米的芯片了。
事實就是這樣，國外永遠不會賣給我們最先進的東西。
經過漫長的時間之後，如果能改造成功，毫無疑問火星就會屬於張星辰了，不管別人承認也好，不承認也好。
張星辰有能力改造也有能力上去，別人呢，或者說別地國家呢？
或許，其他國家連送人去火星都辦不到呢，而張星辰這裏已經完成了火星的改造，想想一個人獨占一個星球的美好，想到張星辰的嘴角都忍不住往上輕俏。
……
自己生產矽晶圓片僅僅是第一步，接下來的第二步就是自己製造光刻機，其是高端光刻機。
可以自己製造光刻機之後，那麽生產芯片的整個流程星辰公司可以說都掌握了，從設計芯片到製造矽晶圓片到生產芯片整個流程，上流中流，下流都可以完成了，獨自完成，再也不用依靠別人。
說起光刻機來，其實光刻機有很多名字。比如說光刻係統，比如說曝光係統，比如說掩模對準曝光機等等，其實他們說的都是一個設備，那就是光刻機。
光刻機是生產芯片最關鍵的一種設備，可以說沒有光刻機，就生產不出來芯片。
光刻機的工作原理非常簡單，和以前照片衝印的技術類似，隻不過精密度有一定的差別。
可以說光刻機的精密度非常的高，已經達到納米級別。
可以毫不誇張地說高端的光刻機是這個世界上最精密的儀器，被稱作現代光學工業之花，其中沒有一點水分，貨真價實。
從這個稱唿來看，我們就可以從側麵反映出光合機的精密度以及價值，高端的光刻機的價格非常昂貴，可以賣到5億米元。
當然這不僅僅是金錢的關係，有時候你就算有錢，人家也不願意賣給你。
因為外國人害怕我們買迴去之後研究，然後可以自己製造出來，畢竟我們國家的逆向推理能力還是非常強的。
現在能知道高端高科技的企業都是外國企業呀，其中最出名的就是三個企業，三個企業就是荷蘭的asml，島國的ai kun以及島國的acon。
這三大企業當中，島國占據兩個，我們可以從這方麵可以發現島國在光刻機上是非常強大的。
雖然我們有曆史原因非常仇視島國，但是我們不得不承認他們強大，不得不正視他們的強大，我們需不需要盲目地自大，也不需要盲目地自卑。
我們要正視自己，也要正視敵人，認清自己，也認清認清楚敵人，這樣做到知己知彼才能百戰不殆。
此時的落後不可怕，可怕的是一直在落後，我們知道自己不如別人之後，這樣才能追上敵人，甚至超越敵人。
而且因為星晨公司的存在，相信用不了多長時間，我們在芯片上的能力。就會超越島國超過asml，甚至把他們遠遠甩在身後。
到時候我們國家就會成為芯片大國，也是芯片強國。
芯片是在矽晶圓片上鐫刻出來的，想要製造芯片，首先我們要準備好一張矽晶圓片，然後我們在矽晶圓片上麵塗抹上光刻膠。
把塗抹好光刻膠的矽晶圓片放在光刻機的平台上，光刻膠的上方會有一個掩模，掩模的上麵就是紫外光線發射器。
當光刻機開始工作的時候，紫外光線發射器會發射出紫外光線，紫外光線透過掩模就會照射到光刻膠上。
在掩模上，有著已經事先設計好的電路線圖，光刻機釋放出來的紫外光線透過掩模上的縫隙，通過縫隙的紫外光線會照射在光刻膠上。
那麽接受紫外光線照射的光刻膠就會融化。因此在光刻膠上形成了電路圖案。
但是這裏要注意，這裏僅僅是在光刻膠上形成了圖案，我們最終的目的是在矽晶圓片上形成電路線圖。
隨後我們把矽晶圓片放入到腐化劑上，這樣在沒有光刻膠保護的地方就會被腐化劑給腐蝕掉，從而在矽晶圓片上留下電路。
等電路圖形成之後，用純淨水清洗表麵就可以，去除雜質。
這個過程就像拿著手電筒照一個擁有漏洞的圖案，這個漏洞是什麽，就會在背後的牆上形成什麽樣的圖案一樣。
原理是一樣的，主要是看精密度。
光刻機的精密度是納米級別的。
如果僅僅說納米級別，大家是感受不出來它的精密度到底有多麽精密？
在這裏可以打一個形象的比喻，大家都知道頭發絲的厚度，如果不知道，我們可以從自己的頭上拔一個看看。
納米級別的精密度就是一根頭發絲的五千分之一這麽細。
想想吧，我們的一根頭發分成5000份，納米級別就是其中的五千分之一。
而光刻機的誤差僅僅在兩納米之內。
光刻機有兩個工作平台，這兩個工作平台要保持同步，這就是所謂的機械精度，機械精度的誤差也在兩個納米之內。
這兩個工作平台一個是放矽晶圓片的，一個釋放掩模的。
在光刻機上紫外光線發射器是不動的，而兩個工作平台是同時移動的，這樣可以提高芯片的成品率，但是對設備要求非常高。
當然啦，光刻機不僅僅機械精密要求高，而且對於光源的要求也是非常高，裏邊兒蘊含著光學係統也是無比的複雜。
光刻機的光源有duv，也有euv.
所謂的euv也就是極紫外光。
光刻機裏麵用極紫外光的，光刻機被稱作euv光刻機，可以說這是世界上最先進的光刻機，能生產五納米乃至三納米的芯片，掌握這種技術的僅僅隻有米國一個國家。
我們國家也可以生產光刻機，但是精密度卻沒有那麽高，我們自己生產的光刻機。被稱作600係列光刻機。
它可以生產90納米的芯片，是長城電子設備公司製造出來的，而外國的高科技也能生產五納米的芯片了。
兩者相比較，我們可以看出雙方之間的差距來還是非常大的，這可不僅僅是一代的差距。是數代的差距。
要知道光刻機的精密度90納米是一個難關，過了這難關之後，將密度進一步提升是非常容易的，前麵一路舒坦。一直到45納米才會遇見關卡。
過了45納米這一關之後，下一關就是22納米了……
後邊還有很多關卡，我們自己製造的光刻機僅僅能製造90納米的芯片，不過我們通過購買國外淘汰的光刻機，現在我們的中芯國際可以製造14納米的芯片了。
事實就是這樣，國外永遠不會賣給我們最先進的東西。