當北方的清晨亮起第一抹陽光,長春光機所地下實驗室裏,一場激動人心的實驗,也終於開始了。


    激光發生器開始預熱,這是全套光刻機台中最核心的部件之一,由中科光電院設計製造。


    激光光源射出後,首先會進入光束矯正器,矯正器共有三組,調整光束入射方向,讓激光束盡量保持平行。


    調整完畢的平行激光,會進入能量控製器。


    顧名思義,能量控製器是調節激光功率的存在,控製最終照射到矽片上的能量大小。


    像芯片這樣的高精密製造業,無論曝光不足或者過足,都會嚴重影響出片質量,所以能量必須收到嚴格的控製。


    能量控製器之後,是光束形狀設置器,它可以設置光束形態,呈圓型,環型,散射型等等不同的形狀,而不同形態的激光,又有著不同的光學特性。


    光束形狀設置器尾部,還有一組遮光器,在不需要曝光的時候,遮光器會把光束攔下來,防止光束照射到矽片上。


    再然後是能量探測器,這個東西主要是檢測光束功率的,它無法單獨使用,而是將檢測信號迴饋給能量控製器,配合能量控製器進行功率調整。


    調整完畢的激光束,會穿過掩模版,進入物鏡。


    掩膜版也叫光罩,簡單來說呢,它就是一塊內部刻著線路設計圖的玻璃板,給矽片曝光用的,你想要什麽樣的半導體設計線路,就定製什麽樣的掩膜版。


    掩膜版的價格和精度成正比,國內海凸版,無錫華潤,中微,深圳清逸,路維,十三所,五十五所,自動化所等等,都可以做這個東西。


    目前,華夏已經把基礎型掩膜版價格,砸成了白菜價,帝都微電子所的2um光刻板,隻要一千兩百塊,南京55所的一千一百塊,精度1um的板子五千塊,無錫華潤略貴,兩千塊起步,但板子做的確實漂亮。


    而要是精度達到納米級別的板子,那可就相當昂貴了,根據業內小道消息,蘋果公司給旗下m1型處理器定製的掩膜版,造價高達上百萬美元。


    掩膜版下方,是一種名為掩膜台的機械裝置,它的作用是承載掩模版進行運動,控製精度為納米級,為了達到苛刻的精確控製要求,長春光機所從昆侖集團采購了高精度極光電機。


    在這套機台上,其實有很多技術和產品,都是來自昆侖集團,但最重要的部分,必須是掩膜台下方,巨大而又極端精密的物鏡。


    物鏡由三十多塊鏡片組成,主要作用是把掩膜版上的電路圖,按照比例縮小,再用激光映射的矽晶圓上,並且物鏡還要主動補償各種光學誤差,控製曝光精度。


    可以毫不誇張的說,物鏡就是光刻機的心髒,如果物鏡技術過關,哪怕掩膜技術差一點,光源功率弱一些,最終也能得到不錯的結果。


    但如果物鏡技術不行,其他所有子係統就算造的再好,也沒有任何作用。


    畢竟光刻機的本質,是一套光學係統。


    很多不了解半導體行業的同學,往往對其有所誤解,真正的芯片製造流程,是激光透過物鏡在矽片上曝光出來的,而不是用機器物理雕刻出來的。


    高原目光掃過碩大的物鏡時候,嘴角輕輕揚起一抹弧度,信心滿滿。


    這套物鏡來自係統那大豬蹄子的饋贈,絕不是把三十多片打磨好的玻璃拚接起來那麽簡單,除了精度,它還有著強大的功率補償機製,容錯機製。


    也就是說,激光通過物鏡後,功率可以得到一定程度提升,精度方麵,則可以做到無限接近完美的程度。


    總之就是很牛逼很強大的意思,開了外掛的物鏡,效果杠杠的。


    物鏡下麵,就是測量台和曝光台了,老式光刻機需要先測量,再曝光,而這種雙工作台係統,則可以實現一片矽片曝光同時,對另一片矽片進行測量和校準,工作效率提高一倍以上。


    目前世界上,隻有荷蘭asml掌握雙工作台技術,長春這個機台如果量產的話,將是世界第二名。


    整套機台最底部,是內部封閉框架和減振器,它們負責將工作台與外部環境隔離,保持水平,減少外界振動幹擾,並維持恆定的溫度和壓力。


    這一點極其重要,畢竟是製造高精密芯片,哪怕最微小的震動,一粒塵埃,或者空氣溫度和濕度的差別,都有可能導致矽片曝光失敗,或者前後兩批芯片的性能不一致。


    一台完整的光刻機,大體就是這樣了。


    聽上去簡單,其實卻是人類曆史上最複雜最精密的機台,沒有之一。


    放眼全球,能做到紫外的,隻有asml,佳能,尼康三家,而能做到極紫外的,則隻有荷蘭asml,其餘所有競爭對手,全部慘遭淘汰,消失在曆史的長河中。


    “開始!”


    長春光機所的所長叫杜維明,隨著他一聲令下,全封閉絕塵實驗室裏,光刻機開始運行,大概也就十幾秒鍾過後,一片十二寸矽晶圓就被送下了機台。


    其實,光刻機工作速度是很快的,每小時出片兩百張以上,完全不存在任何問題。


    製約產能的主要是沉積設備,pvd和cvd這類,其次是刻蝕設備包括icpp,die這幾種機台,另外熱處理設備工作效率也十分感人。


    一條月產能一萬片十二寸晶圓的fab製造線,光刻機或許隻有四五台,但刻蝕機,卻起碼要有六十台起步,如果想要追求高效率,甚至要堆一百台以上的刻蝕機。


    目前,中微半導體的介質刻蝕技術,矽通孔刻蝕技術,位列全球前三,全球最牛的半導體代工廠台積電,生產線上就有成百上千台來自中微的刻蝕機,算是國產半導體行業裏比較爭氣的存在。


    “成了!”


    “一次出片成功,比我預想的還要順利!”


    “不愧是昆侖集團啊,臨時加進來的光學係統,竟然和舊機台配合的這麽好!”


    實驗室裏,穿著全套無塵服的工程師,取下十二寸矽晶圓,仔細看,會發現上麵出現了密密麻麻,無比繁雜的線條,燈光下亮晶晶的,甚是喜人。

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