第76章 就你了! !
國產之光：從賣手機開始 作者：是隻菜狗 投票推薦 加入書簽 留言反饋
辦公室隻剩羅離一人。
他眉頭緊鎖，目光凝重的盯著顯示屏，不斷有業內最新科技資訊從其上劃過。
羅離找遍了所有關於芯片的科學期刊，也沒有發現任何機會。
首先，國內其實並不缺製造通用芯片的能力，
缺的隻是製造高精度、低製程的尖端芯片的工藝和設備！
在芯片設計和製造中，納米表示的是芯片中晶體管與晶體管之間的距離，在體積大小相同的情況下，7nm工藝的芯片，容納的晶體管數量幾乎是14nm的2倍多！
晶體管的數量直接決定了處理器性能的強弱，晶體管越多，處理器解析的能力也就越強。
國內目前完全自主研造的芯片，最多也隻能達到90nm級別，單位容納晶體管數量為2億多，遠遠低於平均水平。
核桃mini采用的是高通660芯片，在製程上為14nm，單位晶體管數量便已經達到37億多！
華火前一代性能旗艦——青龍970采用的是10nm工藝，單位晶體管數量為55億……而青龍980更是采用7nm工藝，晶體管數更是達到了恐怖的70億！
在運算能力上，青龍970隻支持29.9gb傳速，青龍980最高可以支持到34.1gb，這還隻是細枝末節，相比之下，兩者在綜合性能跑分上的差距還要更加顯著。
精度越高的芯片，體積就會更小，相應的功耗和發熱也會更小。
低精度的芯片可以滿足重工業生產需要，但絕對無法滿足手機工藝！
手機不同於汽車，內部的空間就那麽點，散熱首當其衝就是第一大難題，製程越小，所占空間也就越小，散熱就會更加優秀。
高精度芯片相比於低精度芯片，性能上的優勢不僅來自於工藝製程，還來源於很多方麵，比如芯片架構、芯片緩存、芯片帶寬、gpu性能和基帶等等。
其真實差距，堪稱雲泥之別。
如果釘子科技找不到解決的方法，將被迫隻能采用國產90nm級芯片，這對釘子來說絕對是一個巨大的打擊。
要知道高通835和青龍980一樣都是10nm芯片，在在晶體管數量上是國產90nm芯片的三十倍！性能更是差距百倍千倍！
最重要的是，黑科技手機係統對處理器芯片製程有嚴格的要求，一代係統隻能兼容14nm以下，二代係統隻能兼容10nm以下。
換成90nm，就意味著瓜子手機將徹底舍棄黑科技手機係統，同時被舍棄的還有40％性能的提升、30％功耗的降低、雲服務功能、語音助手、各種超級算法和超級優化……
這特麽堪稱滅頂之災啊！
沒有黑科技手機係統加持，瓜子手機連八十線廠商都不如。
尼瑪，資本亡我之心不死！
“……有沒有什麽其他辦法？”
問出這個問題，羅離也知道不會有答案。
根本不可能。
當資本企業聯盟決定實行芯片壟斷的那一刻起，就已經堵死了所有生路，除非你能自己搞出來。
羅離第一反應就是查閱係統。
打開兌換列表，在一長串密密麻麻的兌換商品種，羅離找到了芯片製造相關的科技。
排除“虛空係列”、“反物質”、“負相粒子光能”這種一聽就買不起的東西，羅離直接將列表拉到最下來。
然後，他就看到了自己收藏夾中躺了兩個多月的3nmeuv光刻機——
以及後麵長達10厘米的“0”……
羅離：“……”
3nmeuv光刻機，太特麽貴了！
貴到價格隻能用“厘米”來形容。
就尼瑪離譜！
羅離果斷放棄了，這東西絕對不是現階段可以買得起的！
然後他將目光鎖定到5nm級別……這次是8厘米。
淦，放棄放棄！
然後是7nm……
14nm……
……
全部看完，羅離徹底無奈了。
以他目前的係統積分，居然隻能買得起130nm級別的光刻機！還特麽是duv光源！！
duv光刻機和euv光刻機能比？
寒磣誰呢？
duv光刻機大多采用的是波長為193nm級別的氟化氬準分子激光，或者波長為248nm的氟化氪準分子激光，單次曝光的極限製程在128nm到90nm之間，多次曝光雖然可以將精度提升至最高28nm，但卻是以犧牲良品率為代價！
幾乎每重複一次曝光，損壞的幾率就增加一倍……靠duv光刻機想要造出28nm製程芯片，至少需要曝光5次以上！
先不說你連續曝光五次最終能成功幾個，就算成功了，28nm也遠遠解決不了釘子現在的危機。
更別提暴增的材料成本了。
光刻工藝的核心資源是一種叫做光刻膠的化學合成劑，這東西在國內也無法製造。
在層層壟斷下，光刻膠的進口量就那麽多，其他廠商會允許你這麽浪費？
在目前，duv光刻機受限於精度製程，已經無法滿足後來14nm、7nm、5nm等更高製程的需求了，這時候就需要依靠euv光刻機。
euv光刻機采用的是一種13.5nm的極紫外光，可以在大約200平方毫米的麵積下集成超過105億顆晶體管。
用euv光刻機製造7nm級芯片，隻需要曝光一次。
在現階段，
國產芯片僅能滿足日常生產生活的基礎要求，高端光刻機無法進入國內，高級芯片生產的困難還是很嚴峻。
釘子如果想真正解決芯片的問題，第一件需要解決的就是光刻機精度。
“既然不能製造光刻機，那能不能對現有的光刻機製程進行改進？”
羅離忽然有了一個大膽的想法。
眾所周知，光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，隨著科技的進步，極限光源的波長也在不斷縮小，從duv光源的248nm級數不斷突破，一直來到現在的13.5nm極紫光束，進步不可謂不大。
這也是現在芯片技術能突破個位數的根本原因。
既然無法從其他資本手中買到高級光刻機，也無法憑空從係統中兌換，那有沒有可能通過係統的黑科技技術，將國內現有的光刻機工藝水平提升到世界水平……
思緒至此，羅離的心跳開始加快。
對啊，
改裝升級的成本可比從無到有低多了，而且現在國內的芯片工藝也不算太拉胯，要是……
羅離沒有絲毫猶豫，馬上打開係統兌換窗口，然後在搜索框中輸入文字。
再度摒棄一係列花裏胡哨的科幻風選項，羅離一口氣直接將列表拖拽到最底下。
一行不起眼的小字出現在眼前。
【“穩態微距束”技術：20萬積分；】
光速瀏覽完介紹，羅離瞪大了眼睛。
就你了！
咬咬牙，直接選擇兌換！！
“唰！”
強光一閃而過。
他眉頭緊鎖，目光凝重的盯著顯示屏，不斷有業內最新科技資訊從其上劃過。
羅離找遍了所有關於芯片的科學期刊，也沒有發現任何機會。
首先，國內其實並不缺製造通用芯片的能力，
缺的隻是製造高精度、低製程的尖端芯片的工藝和設備！
在芯片設計和製造中，納米表示的是芯片中晶體管與晶體管之間的距離，在體積大小相同的情況下，7nm工藝的芯片，容納的晶體管數量幾乎是14nm的2倍多！
晶體管的數量直接決定了處理器性能的強弱，晶體管越多，處理器解析的能力也就越強。
國內目前完全自主研造的芯片，最多也隻能達到90nm級別，單位容納晶體管數量為2億多，遠遠低於平均水平。
核桃mini采用的是高通660芯片，在製程上為14nm，單位晶體管數量便已經達到37億多！
華火前一代性能旗艦——青龍970采用的是10nm工藝，單位晶體管數量為55億……而青龍980更是采用7nm工藝，晶體管數更是達到了恐怖的70億！
在運算能力上，青龍970隻支持29.9gb傳速，青龍980最高可以支持到34.1gb，這還隻是細枝末節，相比之下，兩者在綜合性能跑分上的差距還要更加顯著。
精度越高的芯片，體積就會更小，相應的功耗和發熱也會更小。
低精度的芯片可以滿足重工業生產需要，但絕對無法滿足手機工藝！
手機不同於汽車，內部的空間就那麽點，散熱首當其衝就是第一大難題，製程越小，所占空間也就越小，散熱就會更加優秀。
高精度芯片相比於低精度芯片，性能上的優勢不僅來自於工藝製程，還來源於很多方麵，比如芯片架構、芯片緩存、芯片帶寬、gpu性能和基帶等等。
其真實差距，堪稱雲泥之別。
如果釘子科技找不到解決的方法，將被迫隻能采用國產90nm級芯片，這對釘子來說絕對是一個巨大的打擊。
要知道高通835和青龍980一樣都是10nm芯片，在在晶體管數量上是國產90nm芯片的三十倍！性能更是差距百倍千倍！
最重要的是，黑科技手機係統對處理器芯片製程有嚴格的要求，一代係統隻能兼容14nm以下，二代係統隻能兼容10nm以下。
換成90nm，就意味著瓜子手機將徹底舍棄黑科技手機係統，同時被舍棄的還有40％性能的提升、30％功耗的降低、雲服務功能、語音助手、各種超級算法和超級優化……
這特麽堪稱滅頂之災啊！
沒有黑科技手機係統加持，瓜子手機連八十線廠商都不如。
尼瑪，資本亡我之心不死！
“……有沒有什麽其他辦法？”
問出這個問題，羅離也知道不會有答案。
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當資本企業聯盟決定實行芯片壟斷的那一刻起，就已經堵死了所有生路，除非你能自己搞出來。
羅離第一反應就是查閱係統。
打開兌換列表，在一長串密密麻麻的兌換商品種，羅離找到了芯片製造相關的科技。
排除“虛空係列”、“反物質”、“負相粒子光能”這種一聽就買不起的東西，羅離直接將列表拉到最下來。
然後，他就看到了自己收藏夾中躺了兩個多月的3nmeuv光刻機——
以及後麵長達10厘米的“0”……
羅離：“……”
3nmeuv光刻機，太特麽貴了！
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就尼瑪離譜！
羅離果斷放棄了，這東西絕對不是現階段可以買得起的！
然後他將目光鎖定到5nm級別……這次是8厘米。
淦，放棄放棄！
然後是7nm……
14nm……
……
全部看完，羅離徹底無奈了。
以他目前的係統積分，居然隻能買得起130nm級別的光刻機！還特麽是duv光源！！
duv光刻機和euv光刻機能比？
寒磣誰呢？
duv光刻機大多采用的是波長為193nm級別的氟化氬準分子激光，或者波長為248nm的氟化氪準分子激光，單次曝光的極限製程在128nm到90nm之間，多次曝光雖然可以將精度提升至最高28nm，但卻是以犧牲良品率為代價！
幾乎每重複一次曝光，損壞的幾率就增加一倍……靠duv光刻機想要造出28nm製程芯片，至少需要曝光5次以上！
先不說你連續曝光五次最終能成功幾個，就算成功了，28nm也遠遠解決不了釘子現在的危機。
更別提暴增的材料成本了。
光刻工藝的核心資源是一種叫做光刻膠的化學合成劑，這東西在國內也無法製造。
在層層壟斷下，光刻膠的進口量就那麽多，其他廠商會允許你這麽浪費？
在目前，duv光刻機受限於精度製程，已經無法滿足後來14nm、7nm、5nm等更高製程的需求了，這時候就需要依靠euv光刻機。
euv光刻機采用的是一種13.5nm的極紫外光，可以在大約200平方毫米的麵積下集成超過105億顆晶體管。
用euv光刻機製造7nm級芯片，隻需要曝光一次。
在現階段，
國產芯片僅能滿足日常生產生活的基礎要求，高端光刻機無法進入國內，高級芯片生產的困難還是很嚴峻。
釘子如果想真正解決芯片的問題，第一件需要解決的就是光刻機精度。
“既然不能製造光刻機，那能不能對現有的光刻機製程進行改進？”
羅離忽然有了一個大膽的想法。
眾所周知，光刻機的曝光分辨率與波長直接相關，隨著科技的進步，極限光源的波長也在不斷縮小，從duv光源的248nm級數不斷突破，一直來到現在的13.5nm極紫光束，進步不可謂不大。
這也是現在芯片技術能突破個位數的根本原因。
既然無法從其他資本手中買到高級光刻機，也無法憑空從係統中兌換，那有沒有可能通過係統的黑科技技術，將國內現有的光刻機工藝水平提升到世界水平……
思緒至此，羅離的心跳開始加快。
對啊，
改裝升級的成本可比從無到有低多了，而且現在國內的芯片工藝也不算太拉胯，要是……
羅離沒有絲毫猶豫，馬上打開係統兌換窗口，然後在搜索框中輸入文字。
再度摒棄一係列花裏胡哨的科幻風選項，羅離一口氣直接將列表拖拽到最底下。
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【“穩態微距束”技術：20萬積分；】
光速瀏覽完介紹，羅離瞪大了眼睛。
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咬咬牙，直接選擇兌換！！
“唰！”
強光一閃而過。